미뉴타텍은 보유한 다양한 패터닝 공정 기술을 통하여 실험실 단계에서의 실험 뿐 아니라 이를 바탕으로 한 제품 양산 체제의 구축까지 다양한 경험을 소유하고 있으며,  고객의 요구사항인 엔지니어링 능력, 생산능력을 바탕으로 높은 가치 창출을 이루고 있다.

특히 보유하고 있는 원천 공정 기술을 바탕으로 그에 적합한 몰드 및 패터닝 재료 뿐 아니라 공정장치에 이르기 까지 다양한 고객사의 요구사항을 만족시키는 기술 솔루션을 제공하고 있고 또한 미뉴타 자체 내의 실제 응용 제품의 생산도 이루어지고 있다.

  • Mold : Material for mold & template
  • Optical : Material for optical element, MLA : Glass like micro lens array (custom made)
  • Patterning : material for unconventional lithography
  • Device : UV curing & patterning device
  • Application challenge : development of new material & process for customer need. production of proto type sample required by customer.
  • MINS™-EBM
    수백 나노 미터에서 수십 마이크로미터 수준의 미세 패턴의 역상을 제작하거나 pattern의 수축,변형 없이 자기복제를 수행하기에 적합하다. 표면에너지가 매우 낮은 특성이 있으며 이형이 어려운 표면에서도 쉽게 이형이 가능하여 형뜨기 재료로 주로 이용된다.
  • Rigiflex™ mold film
    Customer로부터 의뢰 받은 master를 바탕으로 film 형태의 mold를 제작하여 납품한다. 이 film 형태의 mold는 패턴자체의 modulus는 매우 높아서 미세패턴의 구현이 용이하고 유연성이 좋아 취급성이 우수한 장점이 있다. 주로 flash replication, transfer patterning 공정에 사용이 되고 양산공정에도 실제 적용되고 있는 제품이다.
  • Hard mold template
    주로 연구용 재료로 제작된다. Imprint공정이나 SFIL(step & flash imprint litho.) 공정 등에 사용되는 template로 사용할 수 있다. 마스터 1장만 있으면 Template의 대량 복제가 가능 하여 제작비용이 저렴하고 고해상도의 구현이 용이하다. 공정 및 customer 요구에 따라 plastic plate, glass plate, Qz plate, wafer 등을 support로 사용 할 수 있다.
  • Optical structure 용 resin
    UV 경화성 재료로서 경화파장을 UV-A(365nm) 혹은 400nm 대역으로 선택할 수 있다. 경화후 고상 굴절율의 조정이 가능하다.
    굴절율 조정 범위: n = 1.4 ~ 1.6 (550nm 기준)
    Viscosity : 100 ~ 500 cPs ( 25 °C)
    광투과율 : 90% 이상
    내화학성, 내열성, 내UV성 : 광투과도 저하 및 yellowing 방지
    응용 structure : micro lens,  light wave guide,  patterned spacer,  hologram,  micro prism
  • MLA
    무기물인 SiO2가 주성분으로 이루어진 MLA 제품 Qz 혹은 glass 기판상에 형성된 micro lens array 제품.
  • Polarizer
    Metal wire 배선을 이용한 visible light polarizer
  • No residual layer resin
    기존 photo 공정과 같이 resist 부분을 제외하고는 기판이 노출될 수 있도록 patterning 공정에 사용되는 재료, 저점도의 UV 경화형 재료로 wet etching , drying etching 공정에 적합하도록 재료 설계.
  • UV curable precursor
    무색 투명한 재료로서 각종 patterning 공정에 맞춰 응용 가능한 재료.
    Solvent 함유형과 무용제형으로 나뉘며 사용 목적에 맞게 반응형 monomer, functional oligomer , additive, solvent 등이 적절히 배합되어 제공된다.
  • Fusion Cure 360
    저압 UV-A lamp를 사용한 UV light source
    UV 경화형 재료의 경화를 위한 lamp set로서 고압 UV lamp와 달리 사용 및 휴대가 간편함.
    사용 UV lamp : 8~20W UV-A lamp
    main 파장 : 310~400 nm UV-A 영역
    UV light intensity : 5.0 mW/cm2 ( 10cm 이격 거리 측정)
    사용 전압 : 220V
  • Roll to roll UV casting machine
    필름 형태 제품의 대량 생산을 위한 장비로서 Rigiflex mold의 장착 및 금속 전주금형의 장착이 가능, 주로 UV  경화성 재료를 사용한 flash replication 공법을 이용함.
  • Off set 방식 patterning machine
    비연속적인 plate 형이나 단품 형태의 제품 생산에 적합
    coating section과 patterning section으로 크게 나눌 수 있으며 부가적인 기능도 추가 가능함.