Flash Replication 기술은 IR 이나 UV와 같은 energy source를 이용하여 photo curable precursor를 이용한 patterning 기법이라고 볼 수 있다.

기존에 알려진  UV curable patterning 공정으로는 step & flash imprint lithography와 같은 주로 quartz 혹은 metal(예를 들면 Ni) 형태의 mold template를 이용하였으나 미뉴타텍이 보유한 flash replication 기술은 mold의 재료가 metal, quartz ,Si wafer 등에 국한되지 않고 미뉴타텍 개발 재료인 고분자 형태의 MINS mold를 활용하여 다양한 application에 응용할 수 있다. MINS mold의 backing support를 응용공정에 따라 변형함으로써 flexible한 필름형태에서부터 hard template과 같이 응용이 가능하다. (상세사항은 Mold 부분 참조)

특히 활성 에너지선을 이용한 patterning 공정은 그 소요 시간이 다른 공정보다도 짧아  생산성을 감안한 미세패턴 형성 공정으로는 최적의 기술 solution이라고 볼 수 있다.

미뉴타텍은 flash replication을 위한 mold 기술 뿐 아니라 패턴구현을 위한 curable precursor에 대한 기술을 보유하여 다양한 요구형태에 적합한 재료를 만족시키고 있다.

Flash replication 공정 또한 다른 공정과 같이 공정 완료 후 pattern의 잔막 상태를 precursor 와 공정 조건의 제어를 통해 조절할 수 있다. 응용 예로 잔막이 남지 않는 패턴의 경우 etch resist로 응용이 가능하고 잔류 잔막의 적절한 조정을 통해 3차원 구조물을 특징으로 하는 각종 광학부품이나 전자부품의 일부 공정으로 사용이 가능하다.

다음은 flash replication 공정의 개념을 단계별로 그림으로 표현한 것이다.