비전통적 방식의 lithography 공정을 위해 미뉴타텍은 범용 고분자 용액 뿐만 아니라 자체 개발한 photo-curable 재료, thermal curing 재료, 복합재료, 광학재료 등 다양한 재료를 확보하고 있다. 미뉴타가 보유한 MINS™ 시리즈의 재료는 pattern형성을 위한 희생층 뿐 아니라 device내에 잔존하는 micro장치의 역할까지 훌륭히 해낼 수 있는 다양한 portfolio를 구축하고 있다.

각각의 공정별로 사용되거나 응용되는 재료들을 다음과 같이 정리 할 수 있다.

  • Mold material
    MINS™-RM : flash replication이나 direct transfer patterning 등과 같은 공정에 주로 사용되는 mold 재료로서 무색 투명한 photo-curable 재료이다. 사용 목적에 따라 점도, modulus, surface tension 등의 물성이 조정 가능하다.
    MINS™-EBM : 원하는 pattern의 역상을 단시간에 제조하거나 상(phase)을 바꿀 때 사용될 수 있는 재료이다. 고점도의 갈색 투명한 photo-curable 재료이다.
    같은 재료들간의 self replication 공정이 손쉽게 이루어질 수 있는 특징을 가진다.
  • Optical element
    Device 내에 잔존하는 재료로서 물질의 특성상 주로 customer의 application spec.에 의해 특성이 결정되고 개발된다. Photo-cure, thermal cure, dual cure 방식이 응용될 수 있다. 사용 목적에 따라 점도, 광투과율(90%이상), 굴절율(nD=1.4~1.6), 내UV성, 내화학성, 내열성 등 원하는 물성을 조정하여 제공하고 있다..
  • Etch resist
    금속배선이나 특정 구조물을 만들기 위해 형성하는 희생층 pattern을 성형하기 위한 재료로서 기존 photo-litho. 공정의 photo resist와 같이 공정 후 잔류 잔막이 없어 wet etching이나 drying etching이 용이하고 도금과 같은 부가적 방식(additive type)의 패턴형성이나 감쇄적 방식(etching type) 모두에 적합한 재료를 공정별로 응용할 수 있다.

Customized material formulation
위의 언급한 재료들 외에도 customer의 요구가 있을 때에는 적합한 재료의 개발과 새로운 공정의 적극적인 적용이 진행된다.